Продукция
PECVD
Данная установка плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD) использует плазменную активацию технологических газов для осаждения тонких плёнок при низких температурах, позволяя наносить диэлектрические, пассивирующие и оптические покрытия из SiO₂, SiNₓ и аморфного кремния без необходимости высокотемпературного нагрева.
PEALD
Данная серия установок плазменно-усиленного атомно-слоевого осаждения (PEALD) обеспечивает реализацию процессов осаждения тонких пленок SiO₂ и SiNₓ и предназначена для прецизионного нанесения покрытий в полупроводниковом производстве.
PVD
Данная серия установок физического осаждения из газовой фазы (PVD) для полупроводниковой промышленности предназначена для обработки кремниевых пластин диаметром 125–200 мм и подложек из карбида кремния (SiC), совместима с пластинами, имеющими срез или выемку. Применяется для осаждения тонких пленок металлов, сплавов, барьерных слоев и оптических покрытий.
Ремонт и восстановление подержанного оборудования
6” и 8” — Тонкие плёнки (Thin Film) A*** P5000 Platform — SACVD, PECVD, WCVD A*** Centura CVD — DxZ, WxZ, HDP A*** Producer CVD N*** Concept-1 N*** Concept-2: Sequel, Altus, Speed
Анализатор остаточных газов (RGA)
Анализатор остаточных газов (RGA) — специализированный прибор для течиискания и мониторинга газовой среды в вакуумном оборудовании полупроводникового производства, адаптированный для технологических камер CVD, травления, ALD и других процессов обработки пластин.
Электростатический зажим (ESC)
Данный электростатический зажим (ESC) предназначен для работы с кремниевыми пластинами и подложками из карбида кремния диаметром 6–12 дюймов, совместим с пластинами, имеющими срез или выемку. Широко применяется в установках CVD, травления, ALD и другом оборудовании для нанесения тонких пленок в полупроводниковом производстве.
Керамический нагреватель
Данный керамический нагреватель для полупроводникового оборудования предназначен для работы с кремниевыми пластинами и подложками из карбида кремния диаметром 8–12 дюймов, используется в составе электростатических зажимов вакуумных установок CVD, ALD, травления и других процессов. Изготовлен из высокочистой керамики со встроенными нагревательными элементами, обеспечивает равномерный нагрев и высокую термическую стабильность, максимальная рабочая температура — свыше 300 °C, отличается высокой точностью терморегулирования.
Озоновая система для полупроводниковой промышленности
Данная серия оборудования полного цикла для работы с озоном включает шесть основных категорий: генераторы озона, COS, ODS, DIO3, анализаторы концентрации озона и каталитические разрушители озона. Все модели прошли этап стабильного серийного производства и являются конкурентоспособными по отношению к зарубежным аналогам.
Полупроводниковое вакуумное оборудование
ООО Нанкин Хуаитай Электронные Технологии — это высокотехнологичное предприятие, профессионально занимающееся исследованиями, разработками и производством высокотехнологичного прецизионного нестандартного автоматизированного оборудования, основной продукцией являются системы подачи химикатов (CCSS), автоматизированные системы транспортировки материалов (AMHS), фармацевтическое автоматизированное погрузочно-разгрузочное оборудование, автоматическое упаковочное оборудование, компания предоставляет индивидуальные решения в области промышленной автоматизации и полнопроцессные технические услуги, ориентированные на рынок России и глобальный рынок.
