
Данная серия установок плазменно-усиленного атомно-слоевого осаждения (PEALD) обеспечивает реализацию процессов осаждения тонких пленок SiO₂ и SiNₓ и предназначена для прецизионного нанесения покрытий в полупроводниковом производстве.
Данная серия установок плазменно-усиленного атомно-слоевого осаждения (PEALD) обеспечивает реализацию процессов осаждения тонких пленок SiO₂ и SiNₓ и предназначена для прецизионного нанесения покрытий в полупроводниковом производстве. Оборудование оснащено полным комплектом отработанных газораспределительных и вакуумных систем, поддерживает подачу различных технологических газов, включая BDEAS, SiH₄, NH₃, NF₃ и другие специальные газы. Для подачи газов используются масс-расходомеры BROOKS и специализированные ALD-импульсные клапаны FITOK, обеспечивающие высокую точность и стабильность дозирования.
Для контроля вакуумного давления применяются вакуумметры Serta серии 730G с диапазоном измерения до 100 торр. Плазменная система оснащена ВЧ-генератором ADTEC TX20 с согласующим устройством, рабочая частота — 13,56 МГц, обеспечивается равномерный и контролируемый выход плазмы. Для размещения пластин используется керамический нагревательный пьедестал с равномерным распределением температурного поля. На выходе установлена система дистанционной плазменной очистки MKS AX7650 объемом 2 л, обеспечивающая эффективное удаление побочных продуктов из камеры и поддержание стабильности процесса. Все комплектующие установки — ведущих мировых производителей. Осаждаемые пленки отличаются превосходной однородностью толщины и шаговой покрывающей способностью, оборудование адаптировано для серийного производства силовой электроники и диэлектрических слоев в передовой упаковке.