
Данная серия установок физического осаждения из газовой фазы (PVD) для полупроводниковой промышленности предназначена для обработки кремниевых пластин диаметром 125–200 мм и подложек из карбида кремния (SiC), совместима с пластинами, имеющими срез или выемку. Применяется для осаждения тонких пленок металлов, сплавов, барьерных слоев и оптических покрытий.
Данная серия установок физического осаждения из газовой фазы (PVD) для полупроводниковой промышленности предназначена для обработки кремниевых пластин диаметром 125–200 мм и подложек из карбида кремния (SiC), совместима с пластинами, имеющими срез или выемку. Применяется для осаждения тонких пленок металлов, сплавов, барьерных слоев и оптических покрытий. Установка выполнена в модульной камерной конструкции, оснащена турбомолекулярным насосом с нагрузочным затвором, что позволяет снизить нагрузку на криогенный насос. Для транспортировки пластин используется вакуумный манипулятор Brooks Magna-Tran 7, обеспечивающий стабильную и быструю передачу подложек.
Оборудование оснащено камерой предварительного выравнивания (выравнивание одной пластины менее 5 с) и независимой камерой охлаждения (охлаждение одной пластины менее 45 с). Передача данных осуществляется по промышленной шине, обеспечивающей высокую помехозащищенность и точный контроль технологических параметров. Камера оснащена высокопроизводительным керамическим нагревательным столиком с электростатическим зажимом (ESC), обеспечивающим равномерное и стабильное распределение температуры и высокую однородность осаждаемых пленок.
Оборудование адаптировано для серийного производства силовой электроники, микроэлектромеханических систем (MEMS) и дисплейных устройств. Имеется возможность интеграции анализатора остаточных газов (RGA) для контроля вакуумной плотности в реальном времени. Установка отличается высокой степенью автоматизации и простотой в эксплуатации и обслуживании.